甚高频等离子体化学气相沉积系统
甚高频等离子体化学气相沉积系统
资产编号:
20136042
联系人:
刘生忠
联系电话:
029-81530785
邮箱:
规格:
VHF-PECVD
放置地点:
2107
生产厂家:
Mvsystem inc.
制造国家:
美国
购置日期:
2013-05-15
入网日期:
2022-05-16
型号:
购置日期:
2013-05-15
入网日期:
2022-05-16
资产负责人:
刘生忠
购置日期:
2013-05-15
仪器价格:
661.83
仪器产地:
美国
分类号:
010411
出厂日期:
2013-05-15
主要规格及技术指标:

6英寸硅基薄膜电池全自动工艺集成系统;
3个PECVD腔室 1个Sputter腔室;
极限真空:10-5Pa;

主要功能及特色:

a-Si、nc-Si、nc-SiGe、Ge量子点、AZO、ITO 薄膜;

主要附件及配置:

公告名称 公告内容 发布日期