磁控溅射沉积系统
资产编号：
S1807434
联系人：
祁赟鹏
联系电话：
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规格型号：
极限真空度：≤6.0x10-5 Pa (经烘烤除气后)； 系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7 Pa.l/S； 系统短时间暴露大气并充干燥氮气后，再开始抽气，40分钟可达到6.0x10-4 Pa； JGP450
放置地点：
长安校区致知楼2310
生产厂家：
中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
制造国家：
购置日期：
1970-01-01
入网日期：
2026-06-22
入网日期：
2026-06-22
购置日期：
1970-01-01
仪器价格：
365000
仪器产地：
分类号：
出厂日期：
1970-01-01
资产负责人：
祁赟鹏
主要规格及技术指标:
极限真空度：≤6.0x10-5 Pa (经烘烤除气后)； 系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7 Pa.l/S； 系统短时间暴露大气并充干燥氮气后，再开始抽气，40分钟可达到6.0x10-4 Pa；
主要功能及特色:
设备能够用于沉积纳米级的功能薄膜和复合膜。
主要附件及配置:
无
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