高阶解调伪外差光学成像系统
高阶解调伪外差光学成像系统
资产编号:
S1808839
联系人:
杨周
联系电话:
邮箱:
规格型号:
可见光近场照明单元 532nm 样品空间分辨率好于20nm 支持4个独立通道的5阶谐波解调制 neaSNOM
放置地点:
长安校区致知楼2205
生产厂家:
Neaspec Gmbh
制造国家:
购置日期:
1970-01-01
入网日期:
2026-06-22
入网日期:
2026-06-22
购置日期:
1970-01-01
仪器价格:
3701865.38
仪器产地:
分类号:
出厂日期:
1970-01-01
资产负责人:
杨周
主要规格及技术指标:

AFM样品位移和扫面台 AFM探头 高分辨光学亮场显微镜 AFM-Tip照明和光收集单元 近场光学指标

主要功能及特色:

由于近场光学显微镜对环境条件要求低,以及已有的成熟的光盘技术基础,因此,它已成为各种近场高密度信息存储技术的强有力的竞争者。提高信息存储密度是科研和工业界极为关注的重大问题。目前的光学及磁光读写方式采用的是远场技术,由于受衍射极限的限制,读写斑的尺寸被控制在1 mm左右,存储密度约为55 Mbit/cm2, 并且使用较短的激光波长对存储密度提高不大。而近场光学的发展提供了一种新的原理。由于扫描近场光学显微镜能突破衍射极限的限制,因而大大提高了存储密度。

主要附件及配置:

公告名称 公告内容 发布日期