购置日期：
2014-09-26
入网日期：
2021-11-04
资产负责人：
陶薏
购置日期：
2014-09-26
仪器价格：
1010658.96
仪器产地：
分类号：
出厂日期：
2014-09-26
主要规格及技术指标:
1.系统极限真空度：优于5E-7托 (干燥、清洁、空载的腔体)
2.膜厚均匀性：优于+/-3% (用Ti在旋转的4寸基片上沉积2000埃的膜，5mm边缘除外)
3.基片可以和蒸发束斑形成0-90度夹角
4.速率分辨率：0.05埃/秒
主要功能及特色:
应用于镀制各种单层、多层硬质薄膜。其在制备纳米器件、有机光电器件的金属电极，以及制备用于生长纳米材料的催化剂薄膜层方面有突出作用。
主要附件及配置:
无
| 公告名称 | 公告内容 | 发布日期 |
|---|
常规 校内 60元/小时 校外 200元/小时
靶材耗材 测试费用不包括测试耗材，靶材、坩埚自带或损耗另计费，价格会根据厂家供货浮动。